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產品資料
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超小型的濺射裝置涂布機用于制備導電薄膜

產品名稱: 超小型的濺射裝置涂布機用于制備導電薄膜
產品型號: SC-701MC
產品特點: 超小型的濺射裝置涂布機用于制備導電薄膜
特點
小型化設計:作為直流濺射類設備中的小型機,SC-701MC具有超緊湊的機身尺寸,便于實驗室和小規模生產中使用。

超小型的濺射裝置涂布機用于制備導電薄膜 的詳細介紹

超小型的濺射裝置涂布機用于制備導電薄膜

超小型的濺射裝置涂布機用于制備導電薄膜

特點

  • 小型化設計:作為直流濺射類設備中的小型機,SC-701MC具有超緊湊的機身尺寸,便于實驗室和小規模生產中使用。
  • 全自動操作:從排氣到涂層,再到進入大氣,整個過程都是全自動的,減少了人工操作的復雜性和誤差。
  • 磁控管陰極:采用磁控管陰極,有助于減輕離子損傷,從而生產出高質量的濺射薄膜。
  • 膜厚控制:配備預設方式和數字顯示膜厚監視器,可以精確控制膜厚。
  • 易于操作:專用的試料臺和靶材臺,可以方便地調整靶材與基板之間的距離。
  • 適用范圍廣:適用于各種電子元器件的電極膜制備、反射薄膜制備等。

技術參數

表格
復制
參數詳情
陰極φ2英寸DC磁控管/2極對向電極
靶材Au靶材附屬
膜厚設定方式預設方式/帶膜厚監視器的數字顯示
氣體導入機制針閥
真空泵直聯式回轉真空泵:20l/min(帶自動逆流防止閥)
排氣操作自動
真空腔尺寸內徑φ120mm×D120mm(SUS制)
樣品交換方法前門開閉式
尺寸(寬/深/高)主體:225/420/320mm;RP:300/160/200mm
重量主體:15kg;RP:9kg

應用

  • 各種電子元器件的電極膜制備。
  • 用于制造反射薄膜等的應用。
SC-701MC以其小型化、自動化和高質量的薄膜制備能力,成為實驗室和小規模生產中理想的濺射設備。

特點

  • 小型化設計:作為直流濺射類設備中的小型機,SC-701MC具有超緊湊的機身尺寸,便于實驗室和小規模生產中使用
  • 全自動操作:從排氣到涂層,再到進入大氣,整個過程都是全自動的,減少了人工操作的復雜性和誤差
  • 磁控管陰極:采用磁控管陰極,有助于減輕離子損傷,從而生產出高質量的濺射薄膜
  • 膜厚控制:配備預設方式和數字顯示膜厚監視器,可以精確控制膜厚。
  • 易于操作:專用的試料臺和靶材臺,可以方便地調整靶材與基板之間的距離
  • 適用范圍廣:適用于各種電子元器件的電極膜制備、反射薄膜制備等

技術參數

表格
復制
參數詳情
陰極φ2英寸DC磁控管/2極對向電極
靶材Au靶材附屬
膜厚設定方式預設方式/帶膜厚監視器的數字顯示
氣體導入機制針閥
真空泵直聯式回轉真空泵:20l/min(帶自動逆流防止閥)
排氣操作自動
真空腔尺寸內徑φ120mm×D120mm(SUS制)
樣品交換方法前門開閉式
尺寸(寬/深/高)主體:225/420/320mm;RP:300/160/200mm
重量主體:15kg;RP:9kg

應用

  • 各種電子元器件的電極膜制備。
  • 用于制造反射薄膜等的應用。
SC-701MC以其小型化、自動化和高質量的薄膜制備能力,成為實驗室和小規模生產中理想的濺射設備。


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